극자외선노광 특허 썸네일형 리스트형 [특허청소식]반도체회로 노광기술, 극자외선의 동이 트다 -액침노광, 극자외선노광 특허, 반도체 회로 특허출원, 특허사무소, 반도체 설계 특허 반도체회로 노광기술, 극자외선의 동이 트다 - 액침노광에서 극자외선노광으로 세대교체 시작 - 차세대 반도체 회로의 미세 패턴 제작기술이 극자외선 노광기술로 세대교체가 이뤄지고 있다. 반도체회로 노광기술은 감광재료에 빛을 조사하여 미세회로를 그려내는 기술로, 짧은 파장의 광원을 사용할수록 더 미세한 패터닝이 가능하다. 이는 1개의 웨이퍼당 얼마나 많은 수의 칩을 찍어낼 수 있는지와 관련된 것으로, 반도체 칩의 가격과 성능을 결정하는 가장 중요한 기술이다. 현재까지 차세대 반도체 미세회로 패턴은 불화아르곤(ArF) 레이저(파장 193nm) 광을 액체층에 투과시켜 유효파장을 줄임으로써 해상도를 증가시키는 액침노광이 주류를 이루고 있다. 이러한 액침노광은 더블패터닝을 적용하더라도 DRAM, 낸드플래시의 제조에 .. 더보기 이전 1 다음
