'특허청'에 해당되는 글 58건

  1. 2015.05.04 [특허청소식]진화하는 에어백, 보행자도 보호한다! -보행자보호 에어백,특허출원,가산동 특허사무소,변리사,특허청,아이디어특허출원, 특허등록
  2. 2015.04.22 2015년 하반기 민간 IP-R&D 전략 지원사업
  3. 2015.03.25 “더 맑게 더 선명하게” 광학 표면 처리 관련 특허 출원 증가-가산동 특허, 구로 특허, 기능성 렌즈 특허, 특허사무소, 변리사, 특허청, 특허등록, 해외출원
  4. 2015.01.21 [서울] 2015년 지역지식재산 창출 지원사업(정시)-맞춤형 특허맵 보고서, 특허기술 내용, 브랜드 리뉴얼 등을 지원
  5. 2014.06.16 [특허청소식]세계 특허청 최초, 출원인 대표명 정보 민간 제공
  6. 2014.06.09 「창의적 지식재산(디자인) 사업화 지원사업」 시행계획-한국지식재산전략원, 특허청, 디자인출원, 디자인등록, 가산동 특허사무소, 구로 특허사무소, 디지털단지 특허
  7. 2014.05.08 [특허청소식]특허청, 중소·중견기업 도와 표준특허 역량 키운다!
  8. 2014.04.14 해외진출을 위한 Step by Step- 헤이그시스템을 통해 국제디자인 등록 출원하기
  9. 2014.02.26 [특허청소식]2014 상반기 특허기술상 신청 안내
  10. 2013.12.27 [특허청]2014년 상반기 민간 IP-R&D 전략지원사업 시행계획 공고-특허청,지재권 중심의 기술획득전략,지원사업,지재권 지원사업,지재권 기술획득전략,변리사. 특허컨설팅 상담

진화하는 에어백, 보행자도 보호한다! 
- 보행자보호 에어백 , 특허출원 급증 -

작년 한해 우리나라 전체 교통사고 사망자 중 보행자가 차지하는 비율이 10만명당 4.1명으로 경제개발협력기교구(OECD) 국가 중 꼴찌인 것으로 나타났다. 이에 따라 정부는 보행환경 개선을 위해 노력하고 있으며, 자동차 업계는 보행자보호 에어백을 적극적으로 개발하고 있다.

특허청에 따르면 이러한 보행자보호 에어백에 관한 특허 출원은 2010년 4건이던 것이 2014년 34건으로 약 9배로 증가하였으며, 에어백 전체 특허에서 보행자보호 에어백 특허가 차지하는 비중도 5%에서 30%로 급등한 것으로 나타났다.

에어백은 핸들에 장착된 운전석 에어백, 조수석 전면에 장착된 조수석 에어백, 계기판 하부에 장착된 무릎 에어백, 시트 측면에 장착된 측면 에어백, 차량 윈도우 상측에 장착된 커튼 에어백, 지붕에 장착된 루프 에어백, 헤드레스트에 장착된 에어백 등 차량 내부에 설치되는 것이 일반적인데, 보행자보호 에어백은 차량 외부에 설치되어 차량과 보행자가 충돌하면 수천분의 1초만에 차량 앞유리 하단부와 양측부를 감싸는 ‘U’자 형태로 팽창되어 보행자를 보호하게 된다.

최근에는 보행자의 머리가 후드에 부딪힐 때 충격을 흡수하는 공간을 형성시키기 위해 후드를 상승시키는 ‘액티브 후드 시스템’과 보행자보호 에어백이 결합되어, 후드가 상승하면서 후드 안쪽에서 에어백이 팽창되며 앞유리 방향으로 전개되는 기술이 활발하게 개발되고 있다. 

보행자보호 에어백 특허출원 비중은 국내 대기업이 62%로 가장 큰 비중을 차지하는 것으로 나타났는데, 이는 유럽연합(EU)이 차량 안전성 평가에 2004년부터 보행자 안전성 항목을 도입하였고, 우리나라도 2008년부터 ‘올해의 안전한 차’ 선정항목에 ‘보행자 안전성 분야’를 추가하는 등 차량의 안전성을 평가할 때 보행자 안전성까지 고려하는 국내외적인 환경변화 때문인 것으로 풀이된다.

특허청 조병도 자동차심사과장은 “IT 기업인 구글이 무인자동차 개발에 나섰고, 최근 보행자보호 에어백에 대한 특허를 출원하였는데, 이는 융합 기술의 시대가 본격적으로 도래한 것을 시사하는 것이며, 무인자동차의 발전에 따라 보행자 보호에 대한 관심이 고조되고 있어 보행자보호 에어백에 대한 기술개발과 특허출원이 향후 지속적으로 증가할 것”이라고 전망했다.

 


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사업개요

연구 조직을 보유한 대기업, 중견기업, 중소기업, 재창업 중소기업을 대상으로 특허로 무장한 글로벌 기업을 육성하고 국가 경쟁력 강화를 위해 특허 전략을 지원해 드리는 사업입니다.


  • ☞ 연구 조직을 보유한 대기업, 중견기업, 중소기업, 재창업 중소기업
     
  • ☞ 맞춤형ㆍ밀착형 특허 전략 수립 지원


지원분야 및 대상

지원분야 대상
ㅇ 신청자격 : 연구 조직을 보유한 대기업, 중견기업, 중소기업 재창업 중소기업

기업구분

판단 기준
신청 가능 사업
대기업
상호출자제한 기업집단에 포함되고, 단일기업의 직전 3년 매출액 평균이 1조원 이상인 기업
- 지재권 중심의 기술획득전략지원
- 소멸특허 활용 전략지원 (중견)
중견기업
- 중견기업 성장촉진 및 경쟁력 강화에 관한 특별법 제2조에 따른 중견기업
상호출자제한 기업집단에 포함되고, 단일기업의 직전 3년 매출액 평균이 1조원 미만인 기업
중소기업
- 중소기업기본법 제2조에 따른 중소기업 (소재·부품 연관 분야 기업에 한함)
중소기업 여부는 중소기업 현황정보시스템(sminfo.smba.go.kr)에서 확인 가능
- 첨단소재·부품 IP-R&D 전략지원
- 소멸특허 활용 전략지원 (중소)
재창업
중소기업
- (기본요건) [붙임1]의 기본요건을 모두 충족하는 기업
- (신청요건) 사업실패 후 신기술·제품 개발을 준비하는 재창업 중소기업이 아래 요건 중 하나를 충족하는 경우 (재창업일로부터 7년 이내 기업에 한함)
공고 마감일 기준, 창업 및 연구개발과 관련하여 정부로 부터 자금을 지원 받고 있는 기업 (, 대출 사업은 자금 상환 연장 및 유예기간의 경우 제외)
재창업 기업 대표자가 중소기업청 재도전 중소기업 힐링캠프’(재기중소기업개발원 운영)를 수료한 기업
세부요건 [첨부파일-붙임1] 자료 참조
 
지원제외 대상

구 분

신청 및 지원제외 사항
공고내용과의
적합성
- 신청과제가 본 사업의 기본목적에 부합하지 않는 경우
- 신청과제의 업무범위가 명확하지 않거나, 지나치게 넓은 경우
의무사항
불이행 여부
- 신청기업이 접수마감일 기준 구비서류 미제출한 경우
- 정해진 기한 내 기업 부담금 납부 등의 의무사항을 불이행한 경우
참여제한 여부
- 신청기업이 접수마감일 기준 국가연구개발사업에 참여제한 중인 경우
- 신청기업이 직전 4개년 간 5회 이상 본 사업에 참여한 경우
채무불이행
부실위험 여부
- 기업이 부도 또는 휴·폐업 상태인 경우
- 국세·지방세 체납 또는 금융기관으로부터 채무불이행이 확인된 경우 (재창업 기업은 제외)
- 기업이 자본전액잠식 상태인 경우
- 외부감사 기업의 경우 최근년도 결산감사 의견이 의견거절또는 부적정인 경우

지원조건 및 내용

신청기간
2015년 4월 10일 ~ 5월 20일, 16:00
지원조건 내용
ㅇ 지원 방식 : 한국지식재산전략원 소속 지재권전략전문가(PM)와 지재권분석 전문기관이 팀을 구성하여 기업에 맞춤형‧밀착형 특허 전략 수립을 지원
ㅇ 지원유형 및 규모

사업 구분
(신청 자격)

과제 유형
지원 기간
지원 규모
지원 내용
지재권 중심의
기술획득전략지원
(대기업, 중견기업)
전략수립
20
OO
기업이 R&D 시 특허분석을 통해 해당 기술의 특허 포트폴리오 구축, 핵심특허 대응전략, IP창출전략 및 R&D방향 제시
전략특화
10
O
특허 포트폴리오 구축을 위한 핵심특허 대응 전략 제시 또는 참여기업 대상 전략 이행 현황 진단 및 보완 전략 제시
IP·복합
20
O
기업의 제품 디자인 설계 시 특허 분석을 병행하고, 특허권과 디자인권을 동시에 확보할 수 있는 전략 제시
첨단소재·부품
IP-R&D 전략지원
(중소기업)
전략수립
(컨소시엄, P5 참조)
20
O
기업이 R&D 시 특허분석을 통해 해당 기술의 특허 포트폴리오 구축, 핵심특허 대응전략, IP창출전략 및 R&D방향 제시
컨소시엄 과제만 신청가능, 일반과제 신청불가
전략선택
16
OO
전략수립과제에서 제시하는 IP-R&D 전략 중 기업 맞춤형 전략을 선택하여 집중 지원
전략특화
10
OO
특허 포트폴리오 구축을 위한 핵심특허 대응 전략 제시 또는 참여기업 대상 전략 이행 현황 진단 및 보완 전략 제시
IP·복합
20
O
기업의 제품 디자인 설계 시 특허 분석을 병행하고, 특허권과 디자인권을 동시에 확보할 수 있는 전략 제시
재창업
IP-R&D
10
O
재기를 위한 핵심특허 창출 및 대응 전략 등 재창업 기업 맞춤형 특허 전략 제시
소멸특허 활용 전략지원
(중견기업, 중소기업)
16
O
소멸·후속특허 간 상관관계 분석, 대응 전략수립 구체화 및 소멸특허 기반 제품/기술 구현 전략 제시
 

  • ㆍ 제품기반 IP-R&D 전략지원사업: 복수의 기업이 함께 개발하는 제품에 대한 공동 IP-R&D전략 수립을 지원(기간 및 기업부담금은 추후 확정 예정)
  • ㆍ 소멸특허 활용 전략지원 사업은 시범 사업으로 3D프린팅 기술 및 의약분야를 우선 지원 예정
ㅇ 지원 조건(기업부담금 납부)
  • - 기업부담금 : 과제 유혐 및 기업 규모에 따라 총사업비의 10% 이상을 부담

기업 규모

기업부담금 비율
지재권 / 첨단
소멸
대기업
100% (현금 60%, 현물 40%)
 
중견기업
50% (현금 60%, 현물 40%)
50% (현금 60%, 현물 40%)
중소
기업
중기업
30% (현금 70%, 현물 30%)
30% (현금 70%, 현물 30%)
소기업
20% (현금 70%, 현물 30%)
재창업 중소기업
10% (현금 70%, 현물 30%)
 
 
  • ㆍ 기업 규모 및 과제 유형별 기업부담금액은 [첨부파일-붙임2] 참조
ㅇ 사업설명회 일시 및 장소

개최일시

지역
개최장소
416()
15:00
~ 17:00
강원(강릉)
강릉과학산업진흥원 소회의실1
420()
서울(강남구)
포스코 P&S 3층 이벤트홀
421()
대구(동구)
대구테크노파크 벤처센터 2층 소회의실
424()
부산(강서구)
벡스코 212
427()
광주(북구)
광주하이테크센터 B501호 중회의실 (산단공 호남지역본부)
429()
대전(유성구)
대전컨벤션센터 205
57()
서울(강남구)
포스코 P&S 3층 이벤트홀
  • - 신청방법 : 민간 IP-R&D 사업관리시스템에서 온라인 신청

지원절차

 

사업신청·접수

기업 선정 평가

기업 예비 선정 및 기업부담금 납부

 

 

 

 

 

 

협력기관 선정 공고

협력기관 선정 평가

최종 선정 및 3자 계약 체결

 

 

 

 

 

 

IP-R&D 전략수립 지원

사후관리

 

 

 

신청방법 및 서류

신청방법
ㅇ 온라인 접수
신청서류
ㅇ 사업신청서, 참여인력 확인서 등

주관기관 담당부서 및 담당자

2015년 하반기 민간 IP-R&D 전략 지원사업 지원사업의 주관기관 담당부서 및 담당자 정보
주관기관 한국지식재산전략원 담당부서 사업담당부서
전화번호 02-3287-4319 홈페이지 URL http://www.rndip.re.kr
담당자명 사업담당자 담당자 전화 02-3287-4319
담당자 FAX 담당자 이메일

접수기관 담당부서 및 담당자

2015년 하반기 민간 IP-R&D 전략 지원사업 지원사업의 접수기관 담당부서 및 담당자 정보
접수기관 한국지식재산전략원 담당부서 사업담당부서
전화번호 02-3287-4319 홈페이지 URL http://www.rndip.re.kr
담당자명 사업담당자 담당자 전화 02-3287-4319
담당자 FAX 담당자 이메일

기타사항

문의처

구분(담당부서)

연락처
내용
시행
부처
특허청
(산업재산창출전략팀)
042-481-8184, 5887
시행계획 등
관리
기관
한국지식재산전략원
(기업협력팀)
02-3287-4319, 4345
신청접수, 사업신청서 작성, 선정평가, 유의사항 등
02-3287-4271, 4299
소멸특허 활용 전략지원 사업 관련 안내 등
02-3287-4362, 4253
사업관리시스템 기관등록, 회원가입, 서류제출 등
기타사항
※ 자세한 사항은 한국발명진흥회(kipa.org) → KIPA홍보 → 공지사항 참조(☞바로가기)





 






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“더 맑게 더 선명하게” 광학 표면 처리 관련 특허 출원 증가
- 높은 시장성에 대한 기대 속에 일본인 출원 강세 

특허청에 따르면, 최근 여가 활동의 증가, 휴대 기기의 수요 및 디스플레이 산업의 발달에 따라 렌즈․유리 등 광학 표면 처리 기술에 대한 특허 출원이 크게 상승하고 있다. 그러나 내용 면에서는 한국에 대한 일본의 출원이 내국인보다 42% 더 많아 국내 기업의 경쟁력 확보가 시급한 것으로 나타났다. 

화면이나 렌즈를 더 맑고 더 선명하게 즐기도록 하는 것이 광학 표면 처리 기술의 핵심이다. 밝은 태양 아래에서 휴대 전화를 볼 때 화면이 잘 보이지 않아 불편을 겪었던 경험이 누구나 한번은 있을 것이다. 또한, 추운 날씨에 온도 변화로 발생한 안경이나 자동차 유리의 김 서림은 때때로 안전에 큰 위협이 되기도 한다. 

이 분야에서 지난 35년간(1979~2013년) 국내 특허 출원은 총 737건에 이른다. 2000년까지는 한 해 평균 4건 남짓이었으나, 2001년 이후 연평균 50건으로 크게 증가하였다. 특히 최근 캠핑․마라톤․등산 등 레저 문화 활동의 증가에 따른 기능성 렌즈의 수요, 야외에서 사용하는 휴대 기기의 증가, 고품질 디스플레이 산업의 발전 등에 따른 것으로 보인다. 


디스플레이뱅크에 따르면 대표적인 광학 표면 처리 분야인 편광판용 표면 처리 필름의 수요량이 해마다 8.7%씩 성장하여 2016년에 서울 면적의 절반인 약 3억 제곱미터에 이를 것으로 전망된다. 또한, 산업연구원은 광학 산업 시장이 연평균 9.3%의 성장률을 보여 2015년에는 5천7백억 달러 수준에 도달할 것으로 보고 있다. 

일본(345건, 46.8%)이 최다 출원국이 된 것은 앞선 광학 재료 기술 및 가공 기술에 힘입어 표면 처리 분야까지 연구 개발을 지속한 결과로 보인다. 그 밖의 외국인 출원으로 미국, 프랑스, 독일, 대만 등이 뒤를 이었다. 

주요한 출원 기술로는 표면에 나노 구조물을 형성시켜 반사광을 산란시키는 무반사 기판, 눈부심과 눈의 피로를 방지하기 위하여 표면에 반사 방지 코팅층 및 자외선 차단 코팅층을 형성하는 렌즈, 김 서림을 방지하도록 친수성 코팅층을 형성하는 유리 등이 있다.

특허청 이진욱 과장은 “최근 광학 표면 처리 분야에서 내외국인 간의 출원건수 차이가 좁혀지고 있어 고무적이다. 그러나 국내 기업의 기술 수준이 외국 기업보다 뒤처져 있는 것은 사실이다. 전문 인력의 양성, 고급 기술의 개발 및 강한 특허의 확보를 통한 경쟁력 강화가 요구된다.”라고 말했다. 




 





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사업개요

서울시 소재 중소ㆍ벤처기업을 대상으로 지식재산권 창출을 촉진하고 지식 재산경영 실현을 도모하기 위해 맞춤형 특허맵 보고서, 특허기술 내용 등을 지원해 드리는 사업입니다.
 

  • ☞ 서울시 소재 중소ㆍ벤처기업을 대상
     
  • ☞ 맞춤형 특허맵 보고서, 특허기술 내용, 브랜드 리뉴얼 등을 지원

지원분야 및 대상

지원분야 대상
ㅇ 서울시 소재 중소 벤처기업 등
  • - 중소기업은 중소기업기본법 제2조 제1항에 의거함
  • - 개인기업 및 (예비)사회적 기업 포함

지원조건 및 내용

신청기간
2015년 1월 19일 ~ 2월 25일
지원조건 내용
ㅇ 맞춤형특허맵(PM)
  • - 요청한 기술과 관련된 특허기술 동향을 조사 분석하고(필수 모듈), 수혜기업이 필요한 세부 활용 전략을 수립하여(선택 모듈) 맞춤형 특허맵 보고서 형태로 제공
ㅇ 특허기술 3D시뮬레이션
  • - 등록된 특허기술 내용을 그래픽, 내려이션 등을 통해 3찬원 시뮬레이션 영상으로 제작하여 제공
ㅇ 브랜드 개발
  • - 신규 브랜드 개발 또는 기존 브랜드 리뉴얼 중 1가지 지원하며, 신규 개발된 브랜드 또는 리뉴얼된 브랜드의 국내 권리화도 함께 지원

지원절차

신청/접수

선정평가

결과통보

 

신청방법 및 서류

신청방법
ㅇ 온라인 신청
  • - 서울지식재산센터(www.ripc.org/seoul)→ 2015년 온라인 사업접수 신청 클릭 → 정시접수 지원 사업 중 원하는 사업 선택 → 신청서 작성
신청서류
ㅇ 신청서 등

주관기관 담당부서 및 담당자

[서울] 2015년 지역지식재산 창출 지원사업(정시) 지원사업의 주관기관 담당부서 및 담당자 정보
주관기관 특허청 담당부서 지역산업재산과
전화번호 1661-1900 홈페이지 URL http://www.kipo.go.kr/
담당자명 사업 담당자 담당자 전화 1661-1900
담당자 FAX 담당자 이메일

접수기관 담당부서 및 담당자

[서울] 2015년 지역지식재산 창출 지원사업(정시) 지원사업의 접수기관 담당부서 및 담당자 정보
접수기관 서울지식재산센터 담당부서 사업 담당부서
전화번호 02-2222-3860 홈페이지 URL www.ripc.org/seoul/
담당자명 사업 담당자 담당자 전화 02-2222-3860
담당자 FAX 담당자 이메일

기타사항

문의처
ㅇ 서울산업진흥원 서울지식재산센터
  • - 대표번호 : 20-2222-3860
  • - 특허컨설턴트 : 02-2222-3865
  • - 브랜드컨설턴트 : 02-2222-3864
기타사항
※ 자세한 사항은 지역지식재산센터(ripc.org) → 참여/알림 → 센터 사업공고를 참조(☞바로가기) 


 




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세계 특허청 최초, 출원인 대표명 정보 민간 제공

 □ 특허청(청장 김영민)은 국내 산업재산권(특허·실용신안·상표·디자인)의 ‘출원인 대표명’ 정보를 세계 특허청 최초로 구축하여, 특허정보 웹서비스 인 ‘키프리스 플러스(KIPRISPlus(plus.kipris.or.kr))’를 통해 6.16(월)부터 민간에 무료로 제공한다고 밝혔다.
 
  ○ 출원인 대표명이란 특허를 출원하고자 하는 출원인이 여러 개의 이름을 등록해 놓은 경우, 이를 대표하는 하나의 출원인 이름을 말한다.

 □ '09년 이전에는 출원인이 별도의 제한 없이 여러 개의 이름을 등록할 수 있어, 실제 같은 출원인이라도 출원 건에 따라 다른 이름이 사용되기도 했다. 특히, 법인이 개인보다 다수의 이름을 보유한 경우가 많은데, 일례로 ‘삼성전자주식회사’는 ‘주식회사 삼성전자’, ‘(주)삼성전자’ 등 총 23개의 출원인 이름을 가지고 있다.

  ○ 현재는 규정상 출원인이 하나의 이름만 사용하도록 하고 있어 문제가 없지만, '09년 이전의 출원 건에 대해서는 출원인 이름을 기준으로 특허를 검색하거나 통계적으로 분석하는데 어려움이 많아, 이에 대한 이용자의 불만의 목소리가 있었다.

 □ 특허청은 명확한 출원인 정보의 대민 제공을 목표로 124만 개의 출원인 이름을 116만 개의 출원인 대표명으로 정비하고, 국내 특허·실용신안·상표·디자인 공보 687만 건과 연계하여 DB로 구축하였다.

 □ 출원인 대표명 정보의 제공으로 기업이 보유한 특허 등 산업재산권을 손쉽게 파악할 수 있을 뿐만 아니라, 각 산업재산권의 정확한 권리자 정보를 통해 기술 거래 활성화 및 권리자 권리 보호에도 크게 이바지할 것으로 기대된다.

 □ 또한, 특허청은 올해 말까지 특허에 대한 출원인 대표명 영문 정보 구축을 완료하여, 해외 특허청과의 정보 교환도 추진할 계획이다. 

  ○ 이러한 국제적 정보 교환을 특허청이 주도적으로 수행함으로써 궁극적으로 글로벌 특허경쟁 환경에서 우리 기업의 권리 보호를 강화하겠다는 전략이다.

 □ 최규완 특허청 정보고객지원국장은 “출원인 대표명 정보는 산업재산권의 주인을 정확히 알려주는 것으로 모든 권리 행사의 출발점이며, 앞으로도 특허청은 산업재산권의 보호와 활용 증진을 위해 다양한 정보를 적극 제공하겠다.”라고 밝혔다.

 

 

 

 

 

 

 

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1

사업 개요

 

 

 

 

사업목적 : 중기청-특허청 협업을 통해 참신한 아이디어를 지닌 역량 있는 대학(원)생지식재산* 발굴하여 예비 1인 창조기업으로 육성

 

* 제품에 적용되는 발명특허, 실용신안, 디자인 등의 지식재산

 

<중기청-특허청 지식재산 사업화 지원 절차>

우수 지식재산 발굴

시제품제작 지원

 

창업멘토링 지원

 

마케팅 지원

 

 

 

 

 

 

 

창의성․사업성 등이 우수한 지식재산 보유 대학(원)생 발굴

보유 지식재산의 권리화 및 시제품 제작 지원

시장반응조사 및 예비창업자 사업전략 수립 등 창업멘토링 지원

우수 창업자에 대해 홍보․마케팅 연계지원(’15년)

 

지원규모(’14년) : 2억원 (10개 내외 과제 선정 예정)

2

 

지원 내용

 

 

 

□ 

지식재산 권리화 : 선행기술조사 및 지식재산권 출원․관리 지원

 

* 전담 특허사무소를 통해 출원료 및 특허관리 지원

 

시제품 제작 : 디자인을 접목한 시제품 설계 및 모형 제작 등 지원

 

* 시제품제작 전문업체를 통한 시제품 설계 및 제작

 

창업 멘토링 : 소속 대학 등을 통해 기술지도, 사업화 교육 등 지원

 

2단계(사업화 단계) : 1천만원 이내 (‘15년 지원, 별도 배정)

 

시장반응조사 : 벤처창업박람회 전시를 통한 시장반응조사 실시

 

마케팅 : 시장반응조사 및 전문가 평가를 통해 선발된 우수 예비창업자에게 마케팅* 등 지원(’15년도 1인 창조기업 마케팅 지원사업 연계지원)

* 홈페이지 제작, 카탈로그 제작, 오픈마켓 입점 지원, 국내외 전시회 참가비 등

 

 

3

 

신청 자격

 

 

 

분야 : 창의적 아이디어 발상으로 상품화 가능한 창업 아이템

◦ 단, 이미 공개되었거나 판매중인 제품, 타인 지재권 침해 소지가 있는 제품은 선정되었더라도 추후 심의를 통해 탈락될 수 있음

 

신청 자격 : 대학(원) 재학생 또는 졸업생으로 예비창업자 또는 2인 이상으로 구성된 예비창업팀

 

졸업생은 졸업 1년 이내인 자에 한하며, 재직자 및 창업자는 신청 불가

 

◦ 2인 이상으로 구성된 예비창업팀의 경우, 예비창업팀 구성원의 50% 이상과 신청자 대표는 해당 대학(원)의 대학(원)생이어야 한다.

 

우대 사항(가점 사항)

 

◦ 신청 아이템 관련 지식재산권 보유자

 

◦ 최근 2년 이내 신청 아이템 관련 공모전 또는 창업경진대회 입상자

 

◦ 최근 2년 이내 기술창업교육과정 이수자(정부 부처·지자체 주관 기술창업교육과정 이수자로 소상공인과정은 제외)

 

* 각 항목별 1점을 부여(최대 3점)하여 대면평가 시 반영하며, 증빙서류 누락 시 가점취득 불가(신청서 제출 시 사업계획서에 첨부, 추후 제출 불가)

 

신청(지원) 제외 사항

 

※ 지원 제외 사유에 해당하는 지 여부는 접수마감일을 기준으로 판단하며, 선정된 이후라도 해당사실이 발견되는 경우에는 선정 취소

 

신청 자격에 해당되지 않는 자

 

신청한 과제와 동일 또는 유사한 과제로 정부 또는 지방자치단체 등으로부터 지원받은 이력이 있거나 지원받고 있는 중인 자(중도포기자 포함)

 

금융기관으로 부터 불량거래자로 규제중인 자(다만, 신용회복위원회의 프리워크아웃, 개인워크아웃 제도에서 채무조정합의서를 체결 한 자, 법원의 개인회생제도에서 변제계획 인가를 받은 자 또는 파산면책을 선고받은 자, 회생인가를 받은 기업, 중진공 등으로부터 재창업자금을 지원 받은 기업 등 정부‧공공기관으로부터 재기지원 필요성을 인정받은 자는 신청 가능)

 

국세․지방세 체납중인 자(단, 협약 전 국세, 지방세 등의 특수채무 변제 완료자는 신청 가능)

 

정부, 지자체, 공고기관 등에 참여제한으로 제재중인 자

기타 중소기업청장이 참여제한 사유가 있다고 인정하는 자

 

4

신청․접수

 

 

 

신청 방법

 

◦ 대학에서 소속 예비창업자(팀)를 발굴하여 일괄 신청

 

* 대학에서 소속 예비창업자(팀)을 발굴·신청하지 않는 경우, 해당 예비창업자(팀)는 [별지 제1-2호 서식]을 한국지식재산전략원에 직접 신청

 

예비창업자(팀)은 [별지 제1-2호 서식]을 작성하여 소속 대학 산학협력단(창업보육센터)에 제출

 

◦ 창업지원 대학은 예비창업자(팀)의 신청서 및 사업계획서를 [별지 제1-1호 서식]에 첨부하여 한국지식재산전략원에 신청

 

접수기간 : ’14. 6. 3(화) ~ ’14. 7. 4(금) 18:00까지

 

접수처 : 서울시 강남구 테헤란로 131 한국지식재산센터 8층 (135-980) 한국지식재산전략원 활용촉진팀 담당자 앞

 

접수방법: 신청서류를 직접 또는 등기우편으로 제출(마감일 도착분 한함)

 

신청서류

 

연번

서식명

비고

사업계획서(전자파일, 출력물 6부)

필수

신청자(팀) 서약서

개인정보 및 신용상태 조회 동의서

신청자 재학증명서 또는 졸업증명서

발표자료(대면평가 대상자로 선정된 자(팀)에 한하여 대면평가 전 별도 제출)

해당 시

가점항목 증빙서류

해당 시

5

 

평가․선정

 

 

 

 

평가 절차

 

◦ 요건검토 ⟶ 선행기술조사 ⟶ 대면평가를 통해 최종 지원대상 선정

 

* 선행기술과 동일하거나 극히 유사한 창업아이템은 대면평가 대상에서 제외

 

<선정 절차>

신청・접수

요건검토

선행기술조사

대면평가

 

 

 

 

 

 

 

우편 및 방문 접수

 

 

(대학명의로 접수)

신청자격

충족여부 검토

신청 창업아이템 선행기술조사 실시

대면평가를 통해 10개팀 내외 선발

(시제품 원가조사 실시)

 

평가 내용

<평가 지표(안)>

내용

세부항목

창업자 의지(20)

창업 의지 및 기업가 정신

창업을 위한 준비성(10)

창업 관련 교육 이수, 지식재산권 확보 등

창업아이템의 우수성(50)

창업아이템의 경쟁력 및 파급성

창업아이템의 독창성, 심미성, 차별성, 구현가능성

창업사업화계획 적정성(20)

사업 추진계획 및 소요예산 수립계획의 적정성

최종 선정

◦ 대면평가 평점에 가점을 합산하여 고득점 순으로 예산의 범위 내에서 지원대상자 최종 선정

 

* 최종점수 = 대면평가 평점

6

추진절차 및 일정

 

 

사업공고(6.2)

홈페이지 등에 공고(중기청, 특허청)

 

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특허청, 중소·중견기업 도와 표준특허 역량 키운다! 
- 중소·중견기업의 표준특허 역량 강화를 위한 정책포럼 개최 -

 특허청(청장 김영민)은 8일 미래창조과학부, 국가지식재산위원회, 공정거래위원회, 국가기술표준원 등과 함께 ‘중소·중견기업의 표준특허 역량 강화’를 위한 표준특허 정책포럼을 공동 개최한다.

 이번 포럼은 앞으로 표준특허를 사용한 특허전문관리회사(Non Practicing Entities, 이하 NPEs)의 공격이 지금보다 더 거세질 것으로 예상되는 상황에서 그 주요 피해자가 될 수 있는 중소·중견기업의 표준특허 역량 강화를 위해 마련된 것이다.   

 특허청과 한국지식재산보호협회의 ‘2013년 NPEs 동향 연차보고서’에 따르면, 작년 한 해 NPEs로부터 소송을 당한 23개의 국내 기업 중 중소·중견기업이 과반수에 가까운 11개로 나타났다. NPEs에 의한 피해가 대기업에서 중소·중견기업으로 확산되고 있는 양상이다. 

 한편, 정보통신정책연구원의 최근 연구결과(ICT 표준경쟁 현황과 시사점)에 따르면, 2012년 전체 표준특허가 2009년 대비 약 40% 증가하는 동안 NPEs 보유의 표준특허는 60% 이상 증가한 것으로 나타났다. 최근 들어 NPEs가 일반특허 보다는 침해 입증이 쉬운 표준특허의 확보에 더 집중하고 있음을 엿볼 수 있는 대목이다.
     
 그러나 국내 중소·중견기업들의 표준특허에 대한 인식이나 역량은 아직도 매우 부족한 상황이다. 

 우리나라의 기업/기관별 표준특허 보유 현황을 살펴보면 삼성이 49.4%, LG가 38.2%로 전체의 87.6%를 차지하는 등 지나치게 일부 대기업에 편중되어 있다. 

 더욱이 중소·중견기업의 표준특허 보유 비중은 0.8%(3개사)에 불과한 것으로 나타나 개선이 시급하다. 

 표준특허 역량을 갖추기 위해서는 기술뿐만 아니라 특허, 표준에서 고도의 전문성이 필요하기 때문에 중소·중견 기업의 힘만으로는 달성이 어렵다. 

 따라서 중소·중견기업이 자체적으로 표준특허 역량을 쌓아나가는 것과 동시에 특허, 연구개발(R&D), 표준 관련 정부 부처의 종합적인 지원이 필수적이다.   

 이에 특허청은 연구개발(R&D), 표준 및 공정거래 관련 부처들과 공동으로 ‘2014년 표준특허 정책포럼’을 주최하여 ‘중소·중견기업의 표준특허 역량을 강화’하기 위한 종합적인 정책 방안을 마련하기로 하였다.

 포럼의 1부 주제발표에서는 정부 각 부처가 ‘중소·중견기업 표준특허 지원 정책’에 대해 소개하고, 이어지는 2부 패널 토론에서는 정부부처와 삼성전자, 한국전자통신연구원(ETRI), 성균관 대학교 및 중소기업 등 산학연의 특허, 연구개발(R&D), 표준 전문가들이 모여 중소·중견기업을 위한 표준특허 정책 지원 방안에 대해 논의할 예정이다.  

 특허청 표준특허반도체팀의 정성중 팀장은 “포럼에서 나온 다양한 정책 제언과 현장 관계자들의 의견을 반영하여 우리 중소·중견기업의 표준특허 역량을 강화할 수 있는 좋은 정책 방안을 마련하도록 하겠다”고 밝혔다.  


 




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디자인을 국제출원하는 방법은 두 가지가 있다. 첫 번째는 출원하려는 국가마다 직접 출원절차를 밟아야하는‘파리 루트(Paris Route)’이고, 두 번째는 WIPO(세계지식재산기구) 국제사무국(이하, WIPO)이라는 허브를 통해 하나의 출원 절차로 여러 국가에 한 번에 출원 할 수 있는 ‘헤이그 시스템’을 이용하는 것이다.



헤이그 시스템은 기존에 우리나라가 헤이그 협정에 가입되어 있지 않아 이용할 수 없었다. 하지만 지난달 31일 한국 특허청이 스위스 제네바 WIPO본부에서 ‘산업디자인의 국제등록에 관한 헤이그 협정’가입식을 치루며 한국도 오는 7월부터 국제 디자인 출원에 있어서 헤이그 시스템을 이용할 수 있게 되었다. 헤이그 시스템 도입에 앞장서고 있는 특허청 디자인심사정책과 전호범 사무관을 만나 해외에 디자인을 등록출원하고 보호하기까지의 Step by Step을 들어보았다.





내가 디자인한 제품의 해외 판로를 개척하거나 해외 전시회에 참가할 예정이라면, 진출하고자 하는 모든 국가에 대해 권리를 확보하는 것이 가장 좋습니다. 하지만 경제적인 부담이 따르므로 그 중 어떤 국가를 대상으로 디자인 권리를 확보할 지 선택해야 합니다. 국가를 선택했다면 국제출원 국가의 수, 해당 국가의 헤이그 협정가입 여부, 심사주의 국가 여부, 디자인 또는 도면의 개수 등에 따라 국제출원 수수료가 달라지므로 소요되는 출원 및 대리 비용을 비교해 출원 방법을 결정해야 합니다.

헤이그 시스템을 통한 국제출원은 하나의 언어(영어, 프랑스어, 스페인어 중 선택), 하나의 출원서를 하나의 통화(스위스 프랑, CHF)로 수수료를 납부하면서 각국에서 출원한 효과를 가지므로 파리 루트1에 비해 출원 절차가 매우 간편합니다. 특히 국제출원을 원하는 국가의 수가 많아질수록 헤이그 시스템을 활용하는 것이 유리하며 비용절감 효과가 큽니다.

1 파리 루트는 산업재산권 보호를 위한 파리조약에 기초하여 각국의 독립된 법제를 통해 개별국가에 직접 출원하는 방식으로, 국가마다 다른 언어로 출원 서류를 작성하고, 국가마다 대리인을 선임하고 각각 다른 절차를 밟아야하는 번거로움이 있음. 

 


‘무심사’, ‘2개 디자인’, ‘10개 도면’을 OHIM(EU), 스위스, 한국 3개국을 전자출원 할 경우의 수수료를 비교해보자. 개별국에 직접출원(파리 루트)하는 수수료(5년까지의 등록료 포함)는 약 156만원이다. 반면에 헤이그 시스템을 통해 국제출원한 경우는 약 117만원으로 약 40만원이 절감된다. 또한, 현지 대리인선임비용(국가별 100만원 추산)까지 감안하면 약 240만원이 절감되는 것으로 파악된다.

 

 
주의해야 할 것은 헤이그 시스템을 통한 국제출원은 헤이그 협정2에 가입된 국가에만 한정되어 있다는 점입니다. 현재 동 개정협정에는 46개 체약당사자가 가입하고 있으며, 국가수로는 74개국입니다. 주요 가입국을 살펴보면, 독일, 프랑스, 영국, 이태리 등 27개 유럽연합 회원국과 카메룬, 코트디부아르 등 16개 아프리카 지식재산권기구(OAPI) 회원국, 그리고 스위스, 터키 등이 있습니다. 주요 IP강국인 미국, 일본, 중국은 아직 가입 전이지만, 미국은 헤이그 협정 가입 관련 의회를 통과했으며, 일본도 추진 중에 있어 2015년 경에는 헤이그 시스템을 이용할 것으로 예상됩니다. 중국 역시 가입여부를 검토 중에 있어 2016년 이후에는 가입할 것으로 예상 되며 그렇게 될 경우 WIPO는 세계 출원건수의 90% 이상을 관리할 수 있어 활용율이 더욱 높아질 것으로 기대됩니다.

2 최초의 헤이그 협정은 1925년 11월 6일에 체결되어 1928년 6월 1일에 발효되었으며, 신규성 등 실체심사를 하지 않는 유럽국가들이 중심이 되어 체결한 조약이었음. 그 후 여러 차례의 개정을 거쳤으며, 이 중 우리나라가 가입한 조약은 1999년 7월 2일에 제네바에서 개정되고 2003년 12월 23일에 발효한 협정임.




헤이그 시스템을 통해 국제출원할 경우 한국특허청을 통해 간접출원(Indirect Filing)하거나 WIPO에 직접출원(Direct Filing)할 수 있습니다. 한국특허청을 통해 간접출원하는 경우 ‘영어’로만 출원서류를 작성해야 하지만, WIPO에 직접출원하는 경우 영어, 프랑스어, 스페인어 중 하나의 언어를 선택하여 출원이 가능합니다.
 
국제출원일은 국제출원 서류를 한국특허청 또는 WIPO에 제출한 날이지만 WIPO에서 국제출원일에 영향을 미치는 하자3를 발견한 경우 하자를 치유한 보정서를 WIPO에 다시 제출한 날을 ‘국제출원일’로 보고 있습니다. 하자가 발생했다면 보정하는 데 3개월 정도 소요되므로 그만큼 국제출원일이 연기될 수 있습니다. 그러나 한국특허청을 통해 간접출원하는 경우 절차상 약 1개월의 시간이 더 소요되지만, 1차적으로 방식심사를 진행 후 WIPO에 서류를 보내기 때문에 WIPO에서 보정서를 받게 될 확률이 낮아 좀 더 안전하게 심사가 진행될 수 있습니다.



3
(a) 국제출원이 규정된 언어 중 하나로 이루어지지 않은 경우;
  (b) 국제출원에서 다음 어느 사항이라도 누락된 경우:
  (ⅰ) 1999년 개정협정 또는 1960년 개정협정에 따라 국제등록을 하려고 한다는 명시적이거나 암묵적인 표시;
  (ⅱ) 출원인의 신원을 확인할 수 있는 표시;
  (ⅲ) 출원인에게 또는 대리인이 있는 경우 대리인에게 연락하기에 충분한 표시;
  (ⅳ) 국제출원 대상이 되는 각 산업디자인의 도면이나 1999년 개정협정의 제5조(1)(iii)에 따른 견본;
  (ⅴ) 적어도 하나의 체약당사자 지정.




국제출원서 작성은 서면출원 또는 전자출원(E-filing) 두 가지 방법 모두 가능하며, 전자출원4을 할 경우 WIPO의 E-filing Manager를 이용하거나, 한국특허청에서 개발 중인 국제출원 소프트웨어를 활용할 수 있습니다. 국제출원서에는 출원인 정보와 디자인 및 도면 개수, 디자인설명, 지정국가, 우선권 주장, 국제전시회, 국제공개, 서명 등과 관련된 정보를 기재해야 하는데, 정해진 공식 서식에 맞춰 작성해야 WIPO에서 하자 보정을 요구하지 않습니다.

4 전자출원을 하면 서면출원에 비해 출원을 빨리 할 수 있으며, 도면이 많은 경우 수수료가 감소할 뿐 아니라 제출되는 정보 중 많은 사항을 자동으로 검사하여 하자 발생 가능성이 감소함.


▷ 출원인 정보 
출원인 이름, 주소, 출원적격, 출원인의 체약당사자*, 대리인, 창작자에 관한 정보를 기재하며, 2명 이상의 출원인이 있으나 대리인이 없는 경우 출원인 중 한 명을 연락자로 정하여 연락자의 정보를 기재해야 한다. 정보가 잘못 기재되어 있거나 누락된 경우 하자가 있는 것으로 간주한다.
* 출원인의 체약당사자는 출원인이 국제출원을 할 수 있는 적격을 가지는 체약당사자임. 


▷ 디자인 및 도면 개수 
하나의 출원서에 동일 물품류*에 한해 최대 100개의 디자인을 포함할 수 있으며, 1개 디자인당 도면의 개수에 제한은 없다. 다만, 직물지와 같은 2차원 물품(평면디자인)인 경우 최소 1개의 도면을, 입체디자인의 경우 최소 6개의 도면을 첨부하는 것이 바람직하다. 입체디자인 출원시 6개 미만의 도면을 첨부하는 경우 디자인설명란에 도면생략 이유 등을 기재하는 것이 좋다.
* 국제분류코드인 로카르노 분류를 따름.


▷ 디자인설명
디자인설명에는 산업디자인의 작용에 관한 기술적 특징이나 그 활용에 관해 기재해서는 아니되며, 도면에 나타난 독특한 특징만을 설명하여야 한다. 설명이 100단어를 초과하는 경우, 초과하는 단어 당 2스위스 프랑*의 추가 수수료를 납부해야 한다.
* 한화기준 약 2,400원(환율 2014년 03월 31일 기준). 


▷ 지정국가

1999년 협정에 가입되어 있는 46개 체약당사자(74개 국가) 중에서만 선택 할 수 있다.


▷ 우선권 주장(선택사항)
선출원을 기초로 한 우선권을 주장할 수 있으며, 선출원국가, 선출원번호 및 일자, 해당 디자인 번호를 기입한다.


▷ 국제전시회 공개(선택사항)
국제적으로 인정되는 전시회에서 공개되는 경우로 전시장소, 전시회명, 최초전시일, 해당 디자인 번호를 기입하면 된다. 


▷ 신규성상실 예외주장(선택사항)
최근 WIPO와 협의한 결과, 출원 전에 다양한 수단에 의해 공개된 경우에 e—filing manager 등 전자출원 서식기를 이용하여 국제출원을 할 때* 그러한 사실을 주장하고 그 입증서류를 첨부할 수 있다. 국제출원시 주장하지 못했던 선공지 사실을 주장하지 못한 경우 지정국 심사단계에서 지정국 법률에 따른 기간 내에 주장할 수 있는지도 점검할 필요가 있다. 각 국가의 신규성의제 주장기간은 최소 6개월에서 최대 12개월로 국가마다 상이하므로 최소 6개월 내에 국제출원하는 것이 바람직하다.
* 국제출원서에 반영하기 위해서는 헤이그협정의 공통규칙 개정이 필요하므로 더 많은 시일이 소요될 예정.
 

▷ 관련디자인(선택사항)
최근 WIPO와 협의한 결과, 우리나라와 일본의 특유제도인 관련디자인(현행 유사디자인)과 관련된 정보를 e—filing manager 등 전자출원 서식기를 이용하여 국제출원을 할 때* 기재할 수 있다.
* 국제출원서에 반영하기 위해서는 헤이그협정의 공통규칙 개정이 필요하므로 더 많은 시일이 소요될 예정.


 



한국특허청을 통해 간접출원을 하면 출원서류가 출원일로부터 1개월5 내에 WIPO에 접수되어야 하므로, 한국특허청은 약 3주 후에는 국제출원서류를 WIPO에 송부하게 됩니다. 한국특허청이 국제출원서를 보유하고 있는 기간 동안 중대한 하자가 있는지를 확인하고 그러한 하자가 발견된 경우 국제출원인으로 하여금 이를 보정하도록 한 후 국제출원서를 WIPO에 송부합니다. 그 이후의 모든 절차, 즉 하자보정, 국제출원수수료 납부, 명의변경, 주소변경, 대리인선임 등은 국제출원인(또는 대리인)이 직접 WIPO와 진행해야 합니다.
 
WIPO가 형식요건을 심사하는데 0.5~3개월 정도의 기간이 소요되며, 국제등록 후에는 ‘국제공개’의 종류에 따라 지정국가에서 심사하기까지 소요되는 기간이 달라집니다. 공개된 그날 지정된 국가들은 국제출원서를 받아 심사에 착수하게 되는데, 출원서를 전달받은 지정국가에서는 자국법에서 정한 등록요건에 부합하는지 등을 심사하여 등록여부를 결정하게 됩니다. 실체심사6를 하지 않는 ‘무심사디자인’의 경우는 국제공개일로부터 6개월 내, 실체심사를 하는 디자인의 경우는 12개월 내에 최초 심사결과를 WIPO에 통지해야 합니다.7



국제공개시점은 출원시 결정해야하며, 즉시공개(immediate publication) 또는 공개연기(deferment of publication)를 선택 할 수 있습니다. 즉시공개는 국제등록 1주일 후 공개되며, 공개연기 신청시 국제출원일(우선일)로부터 최장 30개월까지 선택이 가능합니다. 공개여부를 별도로 선택하지 않으면 국제출원일 후 통상 6개월 후에 공개되는데, 공개된 디자인은 국제등록공보(International Designs Bulletin)에 공개되므로 자사의 지식재산권 전략에 따라 공개일자를 선택해야 합니다. 국제등록의 공개는 국내 출원공개로 간주하여 손실보상청구권8이 발생합니다. 공개된 디자인은 무단도용될 가능성이 높기 때문에 디자인제품의 출시시점에 맞춰 국제공개시점을 선택하는 것이 바람직합니다. 출원인의 공개 동향을 살펴보면 즉시공개는 40~50%가 공개연기는 7~8%가 선택되는 것으로 파악됩니다.



5 만일 1개월이 지난 시점에 WIPO에 접수하게 되면 국제출원일이 한국특허청에 출원한 날이 아닌 WIPO에 접수된 날로 함. 
6 타인의 선등록 등 유사여부에 대한 심사(디자인보호법 제2조).
7 파리 루트를 통한 심사처리기간을 살펴보면 심사주의 국가인 미국과 일본은 각각 9.5개월과 6.5개월, 실체심사를 하지 않는 OHIM(EU)은 1개월 미만이 소요되는 것으로 파악됨. 
8 타출원공개시점부터 등록되기 전까지 권리로서의 효력이 발생하기 전에 타인에 의한 침해에 대하여 등록된 이후에 소급하여 그 손실을 보전해 줄 것을 청구하는 제도. 




지정국 관청은 각 법령에 따라 실체심사를 진행하여 등록·거절 여부를 판단하는데, 이 때 지정국의 출원일은 국제등록일(통상 국제출원일과 같다)입니다. 실체심사 시 형식요건에 대해서 거절사항이 발견된다 하더라도 WIPO에서 형식요건에 대한 심사를 마친 이후이므로 형식요건으로 인한 거절은 할 수 없습니다. 또한, 1개의 출원서에 100개의 디자인을 출원했다고 가정했을 때, 이 중 5개 디자인이 거절사유가 있더라도 나머지 95개 디자인은 등록을 받을 수 있습니다. 지정국 관청의 등록·거절 결과는 WIPO를 통해 출원인에게 전달됩니다. 통상 5년분 등록료를 포함한 국제출원수수료를 국제출원시 미리 납부하므로 등록 결정을 받은 날에 권리를 부여받은 날이 됩니다. 다만, 2단계로 구분하는 수수료체계를 선언한 국가(향후 미국이 선언할 것으로 예상)의 경우에는 국제출원시에는 출원료에 해당하는 수수료를, 등록결정시에 등록료에 해당하는 수수료를 납부하는 체계를 가진 지정국에 대해서 출원인은 WIPO를 통해 등록료를 지불해야합니다. 
 
등록된 디자인은 헤이그 협정상 보호기간에 따라 최초 국제출원일로부터 5년까지 보호받을 수 있으며, 이후 갱신수수료를 납부한다는 조건으로 5년마다 갱신하여 15년까지 보호받을 수 있습니다. 만일 지정국의 보호기간이 15년 이상인 경우는 그 기간까지 보호될 수 있도록 하고 있습니다. 예를 들어 한국의 디자인권 존속기간은 2014년 7월 1일부터 설정등록이 결정된 후 ‘출원일로부터 최대 20년’까지로 변경될 예정인데, 한국을 지정국으로 정한 국제디자인의 경우 한국특허청 디자인보호법에서 명시한 기간만큼 최대 20년까지 디자인 권리를 보호를 받을 수 있습니다.

 
**

사업을 안정적으로 수행하기 위해서는 디자인 제품을 해외로 수출하기 전에 디자인권 등 산업재산권을 미리 확보해야 합니다. 한국특허청은 국내 디자인 제품이 신속하고 간편한 절차를 통해 해외에서의 디자인권을 획득할 수 있는 여건을 조성하기 위해 2014년 7월 1일부터 헤이그 시스템을 통한 국제출원을 활용할 수 있게 되었습니다. 헤이그 시스템을 통해 국외 진출을 활발히 하고 또 국내로 유입되는 외국의 디자인들이 증가하여 전반적으로 디자인 업계가 발전하고 이를 통해 국내 디자인의 경쟁력 또한 향상 될 수 있기를 기대해 봅니다.
 


글 / 디자인맵 편집부

전호범 사무관
 

출처 : ⓒKIPO






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특허청은 발명자의 사기를 진작하고 범국민적인 발명분위기를 확산시켜 국내 산업의 기술 경쟁력을 높이고 국민경제 발전에 이바지하기 위하여, 특허청에 등록된 우수 발명과 우수 디자인을 발굴하여 매 반기 시상하는 특허기술상 제도를 시행하고 있습니다.

이에 따라, 2014년 상반기 특허기술상 온라인 신청을 받고자 하오니, 특허기술상에 관심 있는 출원인 및 발명자들께서는 많이 신청하여 주시기를 바랍니다.


o 신청대상

대한민국 국민에 의해 국내에서 출원·등록되어 유효하게 존속 중인 발명(고안) 또는 디자인 중에서 2014년 1월 18일까지 등록 공고되고, 아래 각호 중 어느 하나에 해당해야 함

1. 세종대왕상 부문 (기술성 및 실시 효과 반영 평가)

- 2009년 4월 19일 이후에 설정등록 또는 실시권이 설정등록된 발명(고안) 또는 디자인
- 1999년 7월 1일부터 2006년 9월 30일까지 출원된 실용신안등록출원은 2009년 4월 19일 이후에 실용신안등록유지결정에 대한 확정등록을 완료한 경우로 한정

2. 홍대용상 부문 (기술성 및 향후 가능성 평가)

- 개인 및 소기업이 출원인으로서 2012년 4월 19일 이후에 설정등록 또는 실시권이 설정등록된 발명(고안)
- 1999년 7월 1일부터 2006년 9월 30일까지 출원된 실용신안등록출원은 2012년 4월 19일 이후에 실용신안등록유지결정에 대한 확정등록을 완료한 경우로 한정

※ 상기 요건 모두 충족시 두 부문에 중복 신청 가능


o 신청기간 : 2014년 2월 28일(금) 09:00 ~ 2014년 4월 3일(목) 18:00까지


o 신청방법
- 특허청 홈페이지(http://www.kipo.go.kr)의 팝업존 및 배너를 통하여 특허기술상 홈페이지에서 온라인 신청
- 아래 해당 양식을 다운로드 → 추천 신청하고자 하는 발명·디자인에 대한 설명자료 작성 → 신청 게시판에 작성한 설명자료를 첨부하여 등록
※ 특허(실용신안) 설명자료(양식)(클릭), 디자인 설명자료(양식)(클릭)
※ 특허(실용신안) 설명자료 견본, 디자인 설명자료 견본 (첨부파일을 참조해 주시기 바랍니다.)


o 선정절차
특허기술상 추천 신청 → 담당심사관 추천 → 심사국별 예비심사 → 심사국별 후보 추천 → 선정심사협의회 개최(발명 18건, 디자인 3건에 대한 심사) → 수상작 선정 → 시상식 개최(6월)
※ 후보작 추천결과(4월 말경), 최종 수상결과(5월경)를 특허기술상 홈페이지에 게시 예정


o 시상내역
- 세종대왕상 : 700만원
- 충무공상 : 500만원
- 정약용상 : 500만원
- 지석영상(2건) : 각 200만원
- 홍대용상(5건) : 각 100만원
※ 선정심사협의회 심사결과 특허기술상 선정에 적합하지 않다고 결정하는 경우, 장려상(상금 30만원)을 시상하거나 당해 특허기술상을 선정하지 않을 수 있음


o 수상작에 대한 지원
- 특허청 홈페이지 및 중앙일보 지면 등을 통하여 수상자 및 수상작 홍보
- 창업캠프 입소(창업, 기술거래 지원) 또는 창업기업가 사관학교(투자유치보장) 입학 기회 제공
- 특허기술거래 컨설팅, 우선구매추천, 특허기술평가지원, 지식재산 활용전략 지원 등 발명장려사업의 지원대상 선정시 우대
- 수상작의 사업화·마케팅 지원을 위해 수상마크 제공(장려상은 제외)



o 유의 사항
- 타 발명(고안)․디자인 시상대회에서 수상한 경우, 시상 대상에서 제외될 수 있음. (중복 시상 방지)


o 문의처 : 특허청 특허심사기획국 특허심사제도과 (☎042-481-8413, 5516)


 

 

 

 

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1. 사업 목적

 

우리 기업이 핵심·원천 특허를 선점할 수 있도록 특허 전략을 지원하여 강한 특허로 무장한 글로벌 기업을 육성하고 국가 경쟁력 제고에 기여

 

2. 지원 내용

 

(지원방식) 한국지식재산전략원 소속 지재권전략전문가와 지재권분석 전문기관이 팀을 구성하여 기업에 맞춤형‧밀착형 특허 전략 수립을 지원

 

(전략수립 절차)

사업 추진 방향설정

특허/환경 분석

IP-R&D 전략수립

 

 

 

·기업현황 파악

·전략적 분석목표 설정

·환경 분석

·특허/논문 분석

·핵심특허 대응 전략

·IP창출 전략

·R&D 방향 제시

·특허 인프라 구축

※ 지원 과제 타입에 따라 수행 절차 및 내용 등은 일부 상이할 수 있습니다.

 

3. 세부 사업별 지원 유형

사업 구분

지원 대상

지원 과제 타입

① 지재권 중심의 기술획득전략

ㅇ 대기업1)·중견기업2)

❶ 전략수립

❸ IP 융‧복합

❷ 전략특화

 

② 첨단소재·부품 IP-R&D 전략지원

ㅇ 연구조직을 보유한 소재·부품 연관분야 중소기업3)

 

재창업 중소기업4)

❶ 전략수립

전략선택

❷ 전략특화

❹ IP 융‧복합

 

1) 대기업: 상호출자제한 기업에 포함되며, 단일기업의 직전 3년 매출액 평균이 1조원 이상인 기업

2) 중견기업: 중소기업기본법에 따른 중소기업이 아닌 기업(단, 상호출자제한 기업집단 또는 관계회사 포함시 단일기업 규모가 사업참여 직전 3년 매출액 평균 기준 1조원 미만 기업)

3) 중소기업: 중소기업기본법에 따른 중소기업(상호출자 제한기업 집단 또는 관계기업 포함 등 독립성기준 해당 여부 불문하고 단일기업 규모기준으로 판단)

4) 재창업 중소기업: 세부 지원 요건 등은 붙임 2 자료 참조

※ 지원 기업은 사업 및 과제 타입에 따라 정해진 기업부담금(현금, 현물)을 납부해야 합니다.

 

< 지원 과제 타입별 내용 및 지원기간 >

과제 타입

지원 내용

지원기간

❶ 전략수립과제

기업이 R&D 시 특허분석을 통해 해당 기술의 특허 포트폴리오 구축 및 IP획득전략, R&D전략 제시

5개월

❷ 전략특화과제

특허 포트폴리오 구축을 위한 핵심특허 대응 전략 제시 및 旣 지원기업 대상 전략이행 현황 진단 및 보완 전략 제시

2.5개월

❸ 전략선택과제

❶전략수립과제 기준 IP-R&D 전략 중 기업 맞춤형 전략 포트폴리오를 구축하여 집중 지원

4개월

IP 융·복합과제

기업의 제품 디자인 시 특허 분석을 병행하고, 특허와 디자인권을 동시에 확보할 수 있는 전략 제시

5개월

 

4. 세부 사업별 지원 규모(상반기 예정)

과제 타입

사업 구분

전략수립

전략선택

전략특화

IP융·복합

① 지재권 중심의

기술획득전략

지원규모

15개

 

4개

2개

지원기간

5개월

2.5개월

5개월

사 업 비*

1.2억 원

0.4억 원

1.2억 원

② 첨단소재·부품

IP-R&D 전략지원

지원규모

31개

5개

10개

8개

지원기간

5개월

4개월

2.5개월

5개월

사 업 비*

1.0억 원

0.8억 원

0.4억 원

1.2억 원

* 사업비는 참여기업에 직접 지원되지 않으며, 협력기관 용역비 및 제반비용으로 사용

* 사업비는 참여기업에 직접 지원되지 않으며, 협력기관 용역비 및 제반비용으로 사용

※ 사업별 세부 지원 규모 및 기업부담금 비율 등은 붙임 1 자료를 참조하시기 바랍니다.

 

5. 사업 신청 방법

 

◦신청기간: 2013년 12월 23일(월) ~ 2014년 1월 20일(월)

◦신청방법: 민간 IP-R&D 사업관리시스템(ippro.kipsi.re.kr) 온라인 신청

◦신청절차

사업관리시스템

회원가입

사업신청서

온라인 작성

IP-R&D 역량

증빙자료 업로드

◦신청 시 추가 제출서류

- 기업 IP출원 목록, 참여인력 재직증명서·학위증명서, 기업 재무제표 사본, 기타 우대가점 확인 자료 등 서류평가 증빙 자료 각1부

- 상기 해당기업에 한해 제출가능하며, 사업 신청 시 파일형태로 온라인 업로드

◦사업설명회 개최

- 개최 일시 및 장소

개최일시

지역

개최장소

2014.1.7.(화)

15:00~17:00

서울(역삼동 소재)

포스코 P&S 이벤트홀(3층)

2014.1.9.(목)

원주(우산동 소재)

강원도 산업경제진흥원(소강의실)

* 찾아가는 사업설명회 : 광주(12.10), 부산(12.11), 대구(12.12), 대전(12.18), 서울(12.19) 개최 완료

- 참가신청: 한국지식재산전략원 홈페이지(www.kipsi.re.kr)를 통한 온라인 신청

 

6. 참여기업 선정 절차

 

◦선정절차

신청서

잡수

서류

평가*

발표

평가**

기업

선정***

협력기관

선정

협약체결

및 과제 착수

* 서류평가 시 사업별 지원 대상 요건에 부합하지 않는 경우 해당 사업으로 이관될 수 있음

* 서류평가 시 아래 사항에 대해 우대가점 적용 예정

가점 항목

가점

세부사항

타부처 지원사업 참여기업

5점

타부처 지원사업 연계 과제 (매칭 사업비 포함)

3점

타부처 지원사업 연계 과제(매칭 사업비 기업 자체 부담)

IP-R&D교육이수 기업

1~5점

교육이수자 수에 따라 점수 차등 부여

7대 산업분야별 10대 유망기술

5점

10대 유망기술에 해당 과제 (붙임 3 참조)

직무발명보상 우수 기업 인증

5점

인증서 발급 기업

IP 스타기업

5점

인증서 발급 기업 (중소기업에 한함)

** 기술 분야별 선정평가위원회에서 발표 실시

*** 선정 기업 중 旣 사업참여기업에 한하여 개별 신청을 통해 한국지식재산전략원 소속 지재권전략전문가가 과제에 참여하지 않는 전략수립 위탁과제 수행 가능

*** 중소기업 분포 비중에 따라 지원대상을 권역별(국가균형발전 특별법 시행령에 따른 광역경제권별 할당)로 배분하고 최소한의 자격조건(평가점수 60점 이상)을 갖춘 기업을 대상으로 권역별내 공개경쟁 선정 (붙임 4)

7. 기타사항

 

◦접수가 완료된 신청서는 접수기간 이후 신청기업 요청에 의해 임의로 추가 또는 보완될 수 없으며, 제출된 서류는 일체 반환되지 않음

 

사업신청서의 기술분야(기계·자동차, 화학·소재·바이오, 전기전자·정보통신 등)정확하지 않거나 과제 업무범위가 지나치게 넓을 시 선정 대상에서 제외될 수 있음

 

참여기업 선정 이후라도 기업 현장 방문 등을 통해 사업신청서의 내용이 사실과 다를 경우 선정을 취소할 수 있음

 

13년부터 재참여기업 제한 규정 시행(6점부터 참여제한)

* 전략수립/전략선택/IP융복합과제 1점, 전략특화과제 0.5점, 09∼’12년 기 참여기업 일괄 1점 적용

** 졸업기업 중 일정기간이 경과 시 졸업점수의 감점 적용(1년 경과시 0.5점 감점)

 

 

◦상기 사업 추진 일정 및 내용 등은 사정에 따라 변경될 수 있음

 

8. 사업 신청 관련 문의처

 

◦한국지식재산전략원 기업협력팀 (ippro@kipsi.re.kr)

◦사업별 담당자 및 문의처

세부 사업 구분

담당자

문의처

① 지재권 중심의

기술획득전략

정지운 선임연구원

02-3287-4221

김효선 선임연구원

02-3287-4254

윤순영 주임연구원

02-3287-4226

② 첨단소재·부품

IP-R&D 전략지원

중소

기업

(재창업

기업)

이민우 그룹장

02-3287-4318

김진욱 선임연구원

02-3287-4282

박규태 선임연구원

02-3287-4319

백은주 연구원

02-3287-4365

봉주현 연구원

02-3287-4362

 

 

         

 

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