한․일 특허 심사·심판 공조 강화한다
- 국제 특허분쟁 예방 위해, 아시아 협력기반 구축 -
최근 한국, 중국, 일본 동아시아 3국의 특허출원이 미국, 유럽 특허청 출원건수를 크게 앞질러 격차를 벌리고 있다.* 아시아 주도의 국제 지재권질서 형성을 주도하기 위해 한국 특허청과 일본 특허청이 국제특허공조를 강화하기로 합의하였다.
* 2011년 한·중·일 특허청 출원건수가 100만 건 시대를 맞고, 미·유럽특허청 출원건수 60만 건을 훨씬 추월하고 있다(2011년 기준).
김호원 특허청장은 12월 18일(화) 일본 도쿄에서 후카노 히로유키(深野 弘行) 일본 특허청장과 제24차 한·일 특허청장 회담을 열고, 국제특허분쟁 예방을 위해, 산업과 특허제도가 유사한 양국의 특허심사 및 심판분야의 공동연구 및 협업을 추진하고, 아시아 중심의 국제특허질서 형성을 위해 공동노력하기로 합의하였다.
심사분야에서는, 양국 특허청 심사관이 2000년도부터 연간 2개 기술분야에 대해 실시해오던 양국 공통의 특허출원 건에 대한 공동선행기술조사사업을 매년 4개 기술분야로 확대 실시하여, 특허심사 실무의 조화를 모색한다. 공통선행기술조사사업 확대는 한․일 특허심사와 관련한 제도와 실무의 차이에서 오는 심사결과의 불일치를 최소화하는 데 기여할 전망이다.
2007년부터 시행중인 한․일 특허심사하이웨이(PPH)*의 운영현황과 성과를 공동연구하여, 2013년 개최예정인 다자간 PPH(23개국)에서 국제적인 활성화 방안을 공동발표하고, 관련 국제질서 논의를 이끌어가기로 하였다.
* 양국 특허청에 공통으로 출원된 특허 건에 대해 어느 한 특허청에서 등록을 해주기로 결정한 건에 대해, 상대 청에서 선행 심사 건에 대해 중복심사를 피하면서, 심사기간을 대폭단축하고, 등록률을 높여주는 우선심사프로그램
한편, 국제특허협력조약(PCT)에 의한 국제조사기관(ISA) 및 예비심사기관(IPEA)인 양국 특허청이 아시아지역 국제특허심사 품질을 높이기 위해 한․중․일 3국의 PCT 국제심사시스템과 아시아지역차원의 협업방안을 공동 연구해 나가기로 하였다.
한편, 향후 늘어날 것으로 예상되는 아시아지역 국제 특허분쟁에 대응하여, 특허심판 등 분쟁제도의 현황 파악과 개선방안 마련을 위해 2012년 중 한․중․일 3국 특허청 심판기구 간 협력체를 상설하고, 이를 위해 한․일 특허청 심판전문가회의를 개최키로 하였다.
한, 미, 일, 유럽, 중국 특허청으로 구성된 IP5의 현안인 공통특허분류 제정과 국제특허제도의 조화, 심사협업프로그램 등의 이슈에 대해서도 한․중․일 3국 간 공조 강화를 추진키로 하였다.
김 청장은, “3국이 세계 특허출원의 약 60%를 차지하는 등, 세계 특허질서에서 차지하는 동아시아의 역할이 갈수록 확대될 것”이라고 국제적인 흐름을 소개하면서, “일련의 청장회담을 통해 동아시아 3국 간 특허공조를 확대해 나가는 것은 불필요한 국제특허분쟁을 예방하는 데 크게 기여할 것”이라고 평가하였다.
한국 특허청과 일본 특허청은, 1983년부터 매년 정례 청장회담을 개최하고, 특허, 상표, 디자인, 정보화, 교육 등 5개의 전문가 회의체를 운영하여 양국의 지재권제도 개선을 위해 공동노력하고 있다.
김청장은 본 회담 하루 전인 12. 17(월)에는 연간 15,000여 건의 특허를 한국에 출원하고 있는 일본 기업과 발명인들의 대표적인 유저그룹인 일본지식재산협회(JIPA)와 발명협회(JIII)를 방문하여 일본 민간 지재권 인프라와 일본기업들의 최근 지재권 출원 및 분쟁대응 전략 동향을 점검하고 한․일 민간 차원에서의 지식재산 협력을 당부하였다. 아울러 일본 현지에 진출한 한국기업들과의 간담회를 갖고 지재권 관련 애로사항을 청취하고 지원방안을 논의하였다.
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